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2022年04年24日
航空产业网 2024-05-24
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浙江大学申请一项名为"一种双面同步抛光用的碳化硅晶圆抛光液、制备方法与应用"的专利，申请日期为2024-04-18。
专利摘要显示，本发明涉及晶体材料后处理技术领域，提供了一种双面同步抛光用的碳化硅晶圆抛光液、制备方法与应用，所述抛光液的成分包括：20‑30wt.%硅溶胶，0.005‑0.05wt.%表面活性剂，8‑17wt.%TiO2包覆SiO2核壳光催化磨料，3‑9wt.%双氧水，去离子水；其中，TiO2含量占所述核壳光催化磨料的20‑35wt.%；所述抛光液与碳面的接触角∶抛光液与硅面的接触角为2‑3.5∶1，所述抛光液的pH值为8‑10；在提高硅面的材料去除率的同时抑制碳面过高的材料去除率，碳面和硅面的材料去除率比显著降低至1.2‑2，同时硅面的材料去除率可以提高到150nm/h以上。
查看详情 : 一种双面同步抛光用的碳化硅晶圆抛光液、制备方法与应用
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